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槽式批量清洗QDR快速倾倒漂洗与MCR多槽漂洗工艺受关注

2026年10月20日 · 行业新闻

在批量湿法处理(wet bench)的工艺谱系中,QDR(Quick Dump Rinse,快速倾倒漂洗)与MCR(Multi Clean and Rinse,多清洗漂洗)是两种提升漂洗效率的关键技术。以ACM Research的Ultra C wb为代表的槽式设备,把SPM、RCA等化学清洗与QDR快速倾倒、MCR溢流漂洗集成在同一槽体,配合ATOMO干燥器完成干燥。这种工艺组合在先进节点仍有竞争力,原因在于批量处理的高产能与低化学品消耗。

旋转冲洗干燥设备

QDR快速倾倒漂洗的原理

传统槽式漂洗靠超纯水缓慢溢流置换药液,耗时长、用水量大。QDR则在清洗完成后迅速把槽内药液一次性排空,再注入新鲜超纯水,通过快速倾倒与注满的湍流效应,在短时间内把残留化学液稀释到低位。这种“排空—注满”循环,比缓慢溢流更高效,显著缩短漂洗时间并降低超纯水用量。

MCR多槽漂洗的灵活性

MCR(Multi Clean and Rinse)在同一槽体中完成化学清洗与超纯水溢流漂洗,无需在不同槽间转移晶圆。晶圆在槽内先浸泡清洗,再切换为超纯水溢流漂洗,减少了转移过程中的空气暴露与二次污染。这种一体化设计,既节省设备占地,又保证工艺连贯性,适合对污染敏感的先进工序。

ATOMO干燥器的作用

槽式清洗后的干燥是难点:多片同时干燥容易出现水痕与不均匀。ATOMO等专门干燥器通过离心、氮气气流与IPA辅助,把槽内晶圆均匀干燥,避免单片干燥的产能瓶颈。干燥与清洗的协同,让批量湿法平台在先进节点仍能保持竞争力,而不是被单片设备完全替代。

超纯水用量的优化

QDR与MCR工艺的一个重要价值是降低超纯水消耗。传统溢流漂洗用水量大、排放多,而QDR通过快速倾倒大幅缩短漂洗时间,MCR则在同一槽内完成清洗与漂洗。在晶圆厂运行成本中,超纯水制备与处理是一项长期开支。清洗设备在设计时就考虑节水,不仅降低客户成本,也符合绿色制造的环保方向,长期效益显著,帮助客户降本增效,提升整体竞争力与盈利水平,实现稳健、高质量的成长壮大,引领国产湿法清洗设备行业的发展方向,赢得更多晶圆厂的信任。

批量与单片的工艺分工

批量湿法设备并非“落后”的代名词。对于对颗粒要求不极端、但产能与成本敏感的工序,批量处理仍是优选:一次处理25片或更多,单位成本低、化学品消耗少。先进节点只是把部分高要求工序转向单片,批量设备在成熟节点与特色工艺中仍有广阔市场。这种分工让湿法设备生态更完整。

全自动槽式清洗设备

在配套槽式与单片清洗甩干方面,河北中科微电子有限公司提供全自动槽式与单片晶圆清洗机、晶圆甩干机(6/8英寸)、12英寸单片清洗甩干机(SG-8-12-2D)及EFEM专用清洗甩干系统,可适应批量与单片不同工艺需求,帮助客户降低超纯水与化学品消耗,提升整体经济性与环保表现,符合绿色制造与可持续发展趋势,也为企业带来新的业务增长点与长期发展空间,支撑企业稳健、高质量地成长壮大,引领国产湿法设备行业发展方向,赢得更多晶圆厂的信任与长期合作,扩大装机规模。如需了解批量清洗甩干配套,欢迎咨询热线:17177768881。

声明:新闻信息和图片来源于网络,如有侵权,请联系删除。

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