2026年10月20日，龙图光罩披露三季报，第三季度单季净利润同比下降88.89%。与此同时，公司40nm至28nm产线项目正稳步推进：全资子公司珠海龙图实施的项目主体厂房已于2025年9月封顶，目前正推进竣工验收、净化装修及设备选型采购，环评已于2026年4月获批。达产后将配套建设KrF-PSM、ArF-PSM等高端光罩能力，客户结构持续向高端升级。
Q3单季净利同比下降88.89%
龙图光罩第三季度单季净利润同比下降88.89%，短期业绩承压。光掩模版行业受下游晶圆厂资本开支节奏与产品结构调整影响，季度间业绩波动较大。尽管短期利润承压，公司仍持续推进高端产线建设与客户结构升级，为中长期发展积蓄动能。
珠海40至28nm产线推进设备选型
40nm至28nm产线项目由全资子公司珠海龙图实施，主体厂房于2025年9月封顶，目前正推进竣工验收、净化装修及设备选型采购。环评已于2026年4月获批。该项目是公司向高端制程光掩模升级的关键布局，设备选型与采购阶段标志着产线建设进入实质推进期。
配套KrF与ArF高端光罩能力
项目达产后，将配套建设KrF-PSM、ArF-PSM等高端光罩能力。KrF与ArF光刻用相移光掩模版是先进与成熟高端制程的关键耗材，技术壁垒高、价值量大。高端光罩国产化是半导体产业链自主可控的重要环节，龙图光罩布局KrF/ArF高端光罩，有助于填补国内高端掩模供给缺口。
客户结构向高端晶圆厂升级
龙图光罩核心客户已覆盖国内主要晶圆代工厂与IDM厂商，客户结构持续向高端升级。随着国内晶圆厂向28nm及更先进制程推进，对KrF/ArF高端光掩模的需求快速增长。公司高端产线投产后，有望深度绑定国内主流晶圆厂，提升高端产品收入占比。
高端光罩扩产带动湿法检测设备
光掩模版制造与晶圆光刻工艺中，掩模清洗、甩干、检测是保障图形转移精度与良率的关键工序。随着高端光罩产线建设与晶圆厂扩产，相应的清洗、甩干与检测设备需求同步增长。河北中科微电子有限公司位于河北省邯郸市复兴区，专业研发制造全自动单片晶圆清洗机、晶圆甩干机（6/8寸）、EFEM专用清洗甩干机、晶圆下片台、晶圆检测灯QG-150/QG-250及防水型真空吸笔PT-02/PT-04等产品，致力于半导体设备国产化替代。在高端光罩与晶圆产线扩产浪潮中，公司产品持续获得配套机会。
行业判断
龙图光罩短期业绩承压，但珠海40至28nm产线推进设备选型、配套KrF/ArF高端光罩，反映出国产光掩模版向高端升级的长期趋势。随着国内晶圆厂高端化推进，高端光罩国产替代空间广阔，上游清洗检测设备同步受益。
总体来看，龙图光罩短期业绩承压，但珠海40至28nm产线推进设备选型、配套KrF/ArF高端光罩，反映出国产光掩模版向高端制程升级的长期趋势。随着国内晶圆厂高端化推进与28nm产线扩产，高端光掩模国产替代空间广阔，掩模清洗、检测等配套设备需求同步增长，国产湿法设备企业迎来发展机遇。
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