2026年下半年，中国科学院上海微系统与信息技术研究所先后发布晶圆清洗机与晶圆化学机械抛光（CMP）机采购项目中标公告。科研院所的设备采购，往往代表着对先进工艺研究装备的更新需求。清洗机与CMP机同时出现在采购清单中，反映出前沿半导体研究对“抛光—清洗—干燥”整套湿法工艺链的重视。这类采购虽单体规模不大，但为国产湿法设备提供了验证与切入科研市场的机会。
科研院所为何需要专用清洗机
科研院所的工艺研究具有小批量、多品种、频繁换配方的特点，对清洗设备的灵活性要求高：既要能处理不同尺寸晶圆，又要能快速切换化学配方。专用的科研级清洗机，往往配备多种药液通道、可程控的工艺参数与较小的腔体，便于工艺开发。这种需求与量产线的大通量设备不同，更看重工艺弹性。
CMP与清洗的工艺衔接
CMP（化学机械抛光）后，晶圆表面残留大量磨料颗粒、浆料与金属离子，必须立即进行清洗。CMP与清洗往往被视为同一工艺链：抛光一步、清洗一步，中间不能停顿。因此科研所在采购CMP机时，也会配套相应清洗设备，研究不同抛光条件下的清洗效果。这种工艺联动，让清洗设备的价值在CMP环节被放大。
国产设备进科研市场的意义
科研院所是新工艺、新设备的“试验田”。国产湿法设备若能进入科研院所的采购清单，意味着其工艺能力得到研究机构认可，也能在前沿工艺开发中积累数据。这种背书对后续进入量产线有积极作用。相比直接竞争量产大单，先从科研市场切入，是国产设备稳步成长的一条路径。
清洗与干燥的一体化
科研清洗设备往往把清洗、漂洗与干燥集成在同一腔体，避免取出后空气二次污染。离心甩干、氮气干燥等模块可灵活配置，满足不同材料的干燥需求。对科研用户而言，一体化设备不仅占地小，还能在同一平台对比不同工艺。这种灵活性，正是科研级湿法设备区别于量产设备的核心价值。
科研采购带动的设备需求
随着国内半导体研究项目增多，科研院所、高校实验室的清洗、CMP、甩干设备采购会持续。这类市场对价格敏感度相对低、对工艺灵活性要求高，是国产中小设备厂可以深耕的细分领域。提供可靠、灵活的湿法工艺设备，不仅能获得订单，更能参与前沿工艺的共同开发。
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