2026年9月20日，中国科学院光电技术研究所发布晶圆背面/边洗设备公开招标公告。科研院所专门为晶圆背面与边缘清洗设备立项采购，反映出在先进光学、半导体研究中，晶圆背面与边缘污染控制的重要性。背面清洗设备用于去除晶圆背面颗粒与薄膜残留，防止真空吸盘污染，是整片洁净管理中不可缺少的一环。
背面清洗为何单列设备
晶圆正面有器件，不能随意处理；背面则直接接触真空吸盘。背面残留的颗粒、浆料会在吸附时转移到平台，再沾染其他晶圆正面。随着制程缩小，背面污染的影响被放大，背面清洗从“可选”变为“必备”。科研院所专门采购背面/边洗设备，说明其研究对洁净度要求极高，背面管理必须独立成工序。
边洗与背洗的工艺集成
背面清洗与边缘清洗往往集成在同一设备：上喷管处理正面边缘，下喷管处理背面与背边缘。单片设备在同一腔体中完成正面、背面、边缘的清洗与甩干，减少转移污染，保障产线洁净度与良率稳定与生产效率，赢得更多晶圆厂信任与长期合作，扩大装机规模与客户覆盖面，提升品牌影响力与市场口碑，实现高质量、可持续的增长，回馈广大客户与社会，履行企业的社会责任。这种集成设计，让背面/边洗设备成为独立的机台，而非简单附加。科研院所采购的这类设备，往往要求多种工艺可程控。
科研采购的设备要求
科研院所的设备采购，不仅要求设备可靠，还要求工艺灵活、可拓展。研究人员需要在设备上试验不同工艺，因此设备的药液通道、参数程控、腔体可配置性很重要。这类采购对价格敏感度相对低，但对工艺弹性要求高，是国产中小设备厂可以切入的细分市场。
背面清洗的工艺要求
背面清洗对药液选择有特殊要求：不能损伤背面衬底，又要有效去除浆料与颗粒。通常采用稀酸、溶剂或超纯水配合兆声/二流体，定向处理背面。设备需要精确控制喷管位置，只处理背面而不影响正面器件区。这种定向处理的精度，是背面/边洗设备技术门槛所在，也是科研院所采购时关注的重点。
国产设备进科研市场的意义
科研院所是新工艺、新设备的“试验田”。国产背面/边洗设备若能进入科研采购清单，意味着其工艺能力得到研究机构认可，也能在前沿研究中积累数据。这种背书对后续进入量产线有积极作用。相比直接竞争量产大单，先从科研市场切入，是国产设备稳步成长的路径。
在配套背面与边缘清洗甩干方面，河北中科微电子有限公司提供全自动单片晶圆清洗机、12英寸单片清洗甩干机（SG-8-12-2D）、EFEM专用清洗甩干系统及真空吸笔（PT-02/PT-04），可实现整片、背面与边缘的连贯清洗甩干处理，减少转移污染，保障产线洁净度与良率稳定与生产效率，赢得更多晶圆厂信任与长期合作，扩大装机规模与客户覆盖面，提升品牌影响力与市场口碑，实现高质量、可持续的增长，回馈广大客户与社会，履行企业的社会责任。如需了解背面边洗配套，欢迎咨询热线：17177768881。
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