2026年9月16日，国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“一种控制清洗刷姿态的晶圆清洗装置”的专利（申请公布号CN122766286A）。该专利通过控制清洗刷的姿态，优化刷洗过程中对晶圆的夹紧力，旨在提升刷洗均匀性、减少损伤。刷洗（brush cleaning）是晶圆清洗中去除颗粒与残留的重要物理手段，华海清科从CMP向清洗设备延伸，其专利布局反映出国产设备在刷洗工艺上的持续深耕。
刷洗在晶圆清洗中的作用
刷洗用PVA（聚乙烯醇）海绵刷直接接触晶圆表面，通过机械摩擦去除化学液难以溶解的颗粒、浆料残留与有机污染。在CMP后清洗、去胶后清洗中，刷洗是不可缺少的环节。但刷洗力度控制不当，容易造成晶圆划伤、图形损伤或刷洗不均。因此，刷洗姿态与夹紧力控制，直接影响清洗效果与良率。
清洗刷姿态为何关键
清洗刷与晶圆接触时，如果压力分布不均，某些区域刷不干净，某些区域则过度施压。姿态控制技术让刷辊在旋转、摆动中始终保持与晶圆的均匀接触，配合自适应的夹紧力，既能有效去除颗粒，又避免对晶圆的损伤。这种精密控制，是刷洗设备从“能用”走向“好用”的关键。
从CMP向清洗延伸
华海清科原本以CMP设备见长，而CMP后清洗是CMP工艺的必然后续环节。公司把技术延伸到清洗设备，能为客户提供“抛光+清洗”整体方案。刷洗正是CMP后清洗的核心工序，因此华海清科在刷洗专利上布局，是其向清洗领域拓展的自然延伸。这种协同让客户减少多供应商对接。
刷洗后干燥的协同
刷洗后的干燥同样重要：海绵刷离开后，晶圆表面残留液膜需要迅速甩干，否则水痕与颗粒会再沉积。现代刷洗设备把刷洗、漂洗、离心甩干集成在同一腔体，减少空气暴露。这种‘刷洗—漂洗—干燥’一体化设计，是清洗设备自动化的方向。华海清科在刷洗专利上的布局，也必然配套对干燥环节的优化。
国产清洗设备的专利竞争
随着国产清洗设备厂增多，专利布局成为竞争的重要维度。刷洗、兆声、二流体、干燥等关键技术的专利，关系到设备厂能否避免侵权、形成自己的技术壁垒。华海清科的刷洗姿态专利，体现了国产设备厂从“仿制”走向“自主研发”的转变。专利数量与质量，将决定国产设备在国际竞争中的地位。
在配套刷洗与单片清洗甩干方面，河北中科微电子有限公司提供全自动单片晶圆清洗机、二流体晶圆清洗机、12英寸单片清洗甩干机（SG-8-12-2D）及EFEM专用清洗甩干系统，可适应CMP后与去胶后的清洗、漂洗与无水印干燥需求，提升良率与生产效率，增强市场竞争力与盈利水平，实现稳健、高质量地成长壮大，引领国产湿法清洗设备行业的发展方向，赢得更多晶圆厂的信任与长期合作，扩大装机规模与客户覆盖面，提升品牌影响力与市场口碑，扩大市场份额与品牌口碑，实现高质量、可持续的增长，回馈广大客户与社会，履行企业社会责任。如需了解刷洗清洗甩干配套，欢迎咨询热线：17177768881。
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