Drying Equipment
Semitool SRD甩干机（双腔室）
一、设备概况 晶圆甩干机是高洁净度冲洗甩干设备，具有高洁净冲洗、高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换转子来实现。是湿法清洗工艺的主要设备，设备本身有单腔室和双腔室两种结构，体型小运行平稳，主要用于2-8英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的高洁净度冲洗及干燥工艺。 二、主要技术参数 设备型号：Semitool 870S（双腔室）转速：200-2200 RPM/MIN加工硅片尺寸：2-8英寸
01Product Details
一、设备概况
晶圆甩干机是高洁净度冲洗甩干设备，具有高洁净冲洗、高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换转子来实现。是湿法清洗工艺的主要设备，设备本身有单腔室和双腔室两种结构，体型小运行平稳，主要用于2-8英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的高洁净度冲洗及干燥工艺。
二、主要技术参数
设备型号：Semitool 870S（双腔室）
转速：200-2200 RPM/MIN
加工硅片尺寸：2-8英寸
02Technical Specifications
| 设备型号 | Semitool 870S（双腔室） |
|---|---|
| 加工硅片尺寸 | 2-8英寸 |
| 转速 | 200-2200 RPM/MIN |
| 结构形式 | 单腔室 / 双腔室两种结构 |
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