Crystal Growth Equipment
VGF单晶炉（晶体生长炉）
VGF单晶炉（晶体生长炉）采用垂直梯度凝固（VGF）工艺，主要用于2～6英寸锗单晶、砷化镓、碲锌镉等化合物晶体的生长。 一、设备概况 1.1 产品应用：主要用于2～6英寸锗单晶、砷化镓、碲锌镉等化合物晶体的生长。 1.2 产品特点： 1.2.1 工业计算机控制系统（WINDOWS系统界面，操作方便简洁）；1.2.2 关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性；1.2.3 控温精度高，温区控温稳定性好；1.2.4 具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能；1.2.5 晶体生长均匀性好、重复性高。 二、主要技术参数 工作温度范围及温区配置可根据晶体材料与工艺需求定制，具体参数详见产品技术协议。
01Product Details
VGF单晶炉（晶体生长炉）采用垂直梯度凝固（VGF）工艺，主要用于2～6英寸锗单晶、砷化镓、碲锌镉等化合物晶体的生长。
一、设备概况
1.1 产品应用：主要用于2～6英寸锗单晶、砷化镓、碲锌镉等化合物晶体的生长。
1.2 产品特点：
1.2.1 工业计算机控制系统（WINDOWS系统界面，操作方便简洁）；
1.2.2 关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性；
1.2.3 控温精度高，温区控温稳定性好；
1.2.4 具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能；
1.2.5 晶体生长均匀性好、重复性高。
二、主要技术参数
工作温度范围及温区配置可根据晶体材料与工艺需求定制，具体参数详见产品技术协议。
02Technical Specifications
| 产品应用 | 主要用于2～6英寸锗单晶、砷化镓、碲锌镉等化合物晶体的生长 |
|---|---|
| 晶体生长尺寸 | 2～6英寸 |
| 控制系统 | 工业计算机控制系统（WINDOWS系统界面，操作方便简洁） |
| 关键部件 | 均采用进口，确保设备的高可靠性 |
| 控温性能 | 控温精度高，温区控温稳定性好 |
| 安全保护 | 断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能 |
| 晶体质量 | 晶体生长均匀性好、重复性高 |
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