产品分类 甩干设备

082026.10

Semitool SRD甩干机（双腔室）

一、设备概况 晶圆甩干机是高洁净度冲洗甩干设备，具有高洁净冲洗、高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换转子来实现。是湿法清洗工艺的主要设备，设备本身有单腔室和双腔室两种结构，体型小运行平稳，主要用于2-8英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的高洁净度冲洗及干燥工艺。 二、主要技术参数 设备型号：Semitool 870S（双腔室）转速：200-2200 RPM/MIN加工硅片尺寸：2-8英寸

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单片晶圆清洗甩干机（12寸/8寸）

一、设备概况 单片晶圆甩干机是高洁净度甩干设备，具有高速甩干、快速烘干的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换甩干头来实现。是湿法清洗工艺的主要设备，体型小运行平稳，主要用于2-8英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的清洗干燥工艺，具有成本低、快速应用生产等优点。 二、主要结构特征 单片清洗甩干机主要由伺服电机、PLC控制器、人机界面、高洁净阀门、PFA管、氮气加热器、防腐蚀外壳以及甩干头等部分组成。 2.1 材质：进口PP板，能够满足洁净室工作环境；2.2 专用伺服电机，可实现每分钟10-5000转，低速均匀清洗，高速离心甩干；2.3 工业PLC控制器和人机界面，稳定可靠控制各个部件，直观可视化操作模式；2.4 甩干头可根据客户需要定制，适用不同规格尺寸。

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晶圆甩干机（6/8寸）

晶圆甩干机是高洁净度冲洗甩干设备，具有高洁净冲洗、高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换转子来实现，是湿法清洗工艺的主要设备。

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单片甩干机

单片甩干机是高洁净度清洗甩干设备，具有高速甩干、快速烘干、效率高的特点，不同晶圆尺寸可通过快速更换甩干头来实现，是湿法清洗工艺的主要设备，体型小运行平稳。

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EFEM专用清洗甩干机

EFEM专用清洗甩干机（SG-8-12-2D），专为设备前端模块EFEM集成配套，支持晶圆自动上下料与SECS-GEM通信，2~12英寸晶圆高速离心甩干+双面氮气烘干。