单片晶圆清洗机，光刻板清洗机，晶圆清洗机，单片湿法清洗机

一、设备概况

1.1应用领域：单片清洗甩干机是高洁净度清洗甩干设备, 具有药液腐蚀，纯水清洗，高速甩干，氮气烘干等特点。不同晶圆尺寸，可通过快速更换甩干头来实现。是湿法清洗工艺的主要设备，体型小运行平稳。其主要用于2-8英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的清洗干燥工艺。具有成本低，快速应用生产等优点。

1.2名称：单片清洗甩干机

1.3型号：QSG-150-2Y

二、主要结构特征

单片清洗甩干机主要伺服电机，PLC控制器，人机界面，高洁净阀门，PFA管，氮气加热器，防腐蚀外壳，以及甩干头等部分组成。

2.1材质：进口PP板，能够满足洁净室工作环境。

2.2专用伺服电机，可实现每分钟10-3000转，低速均匀清洗，高速离心甩干。

2.3工业PLC控制器和人机界面，稳定可靠控制各个部件，直观可视化操作模式。

2.4大功率氮气加热器，快速加热氮气，提高烘干效率。

2.5甩干头详情 可根据客户需要定制适用不同规格尺寸的甩干头。

2.6可配置多组药液冲洗，并有药液回吸功能。

三、主要技术参数